在软件开发模型中,下列哪一个模型主要用于支持面向对象开发过程。()
A.喷泉模型
B.瀑布模型
C.增量模型
D.螺旋模型
参考答案:A
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
公司今年年末预期支付每股股利4元,从明年起股利按每年10%的速度持续增长。如果必要收益率是15%,那么,该公司股票今年年初的内在价值等于80元。