最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
参考答案：错
以原型为样件，采用硫化的有初硅橡胶浇注制作硅橡皎模具，即硬模。
苯巴比妥与吡啶-硫酸铜试液反应显示
A．紫红色
B．蓝色
C．白色
D．红色
E．绿色
