为了避免()在经过氯化物等离子体刻蚀之后的残留物使其发生腐蚀,必须在刻蚀完毕之后再增加一道工序来除去这些表面残留物。
A.多晶硅
B.单晶硅
C.铝硅铜合金
D.铜
参考答案:C
已知ab∈R,且a、G、b成等差数列,a、H、b成等比数列,则“a=b”是“G=H”的( )
A.充分不必要条件
B.必要不充分条件
C.充要条件
D.既不充分也不必要条件
写两句关于珍惜时间的名言。