金瓷结合界面处理恰当与否关系到金瓷结合强度，因此严格进行正确的处理才能保证PFM冠的质量 。

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是 （）

A.非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B.贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C.非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D.非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同

E.理想的氧化膜厚度为0.2～2μm

识读下列梁图。

本图中KL2（2A）表示（）。

A.框架梁编号为2，共计2跨且一端悬挑

B.框架梁编号为2，共计2跨且两端悬挑

C.空心梁，共计2跨，两端悬挑

D.空心梁编号为2，共计2跨，含边跨