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问题 解答题

已知b、c是整数，二次三项式x2+bx+c既是x4+6x2+25的一个因式，也是3x4+4x2+28x+5的一个因式，求x=1时，x2+bx+c的值．

答案

∵二次三项式x2+bx+c既是x4+6x2+25的一个因式，也是3x4+4x2+28x+5的一个因式，

∴也必定是x4+6x2+25与3x4+4x2+28x+5差的一个因式，而3（x4+6x2+25）-（3x4+4x2+28x+5）=14（x2-2x+5），

∴x2-2x+5=x2+bx+c，

∴b=-2，c=5，

∴当x=1时，x2+bx+c=1-2+5=4．

填空题

我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、 硅烷热解法和四氯化硅氢还原法。由于三氯氢硅氢还原法具有一定优点，被广泛应用。其简化的工艺流程如下图所示：

(1)制备三氯氢硅的反应为：Si(s) +3 HCl(g)=SiHCl3(g)+H2(g) △H=-210 kJ·mol-1。

伴随的副反应有：Si(s)+4HCl(g)=SiCl4(g)+2H2(g) △H=-241 kJ·mol-1。

SiCl4在一定条件下与H2反应可转化为SiHCl3，反应的热化学方程式为SiCl4(g)+H2(g)=SiHCl3(g)+HCl(g) △H=___________。

(2)由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式为___________。该生产工艺中可以循环使用的物质是_____________（至少写出两种）。

(3)由于SiH4具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法。工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和同体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷．化学方程式是___________；整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为___________；整个系统还必须与氧隔绝，其原因是___________。
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单项选择题

患者，女，40岁，缺失，金属烤瓷桥修复。作蜡型时采用同切开窗法制作

基底冠蜡型回切量不正确的是（）

A．切缘1.5～2mm

B．唇侧1～1.2mm

C．舌侧0.5～1mm

D．面1.2～2mm

E．邻面不大于1mm
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