高炉内还原过程的总速度是由气相（还原剂及还原产物）的扩散速度和界面上的化学反应速度中（）所决定。

A、速度快者

B、速度慢者

C、两种速度之和

D、两种速度之差

按《采暖通风与空气调节设计规范》的规定，机房内设备布置要求，机组与墙之间的净距不小于（）米。

A、1.0

B、1.5

C、2.0

D、2.5