参考答案：

1.通过选择性氧化生成优异的保护膜

2.生成离子移动速度慢的尖晶石结构氧化膜

3.减小氧化膜的晶格缺陷浓度，降低离子的扩散速度

4.增强氧化膜与基体金属的附着力。