问题 多项选择题

一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

A.产生一个离子并导向靶

B.被轰击的原子向硅晶片运动

C.离子把靶上的原子轰出来

D.经过加速电场加速

E.原子在硅晶片表面凝结

答案

参考答案:A, B, C, E

单项选择题
问答题