问题
多项选择题
一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。
A.产生一个离子并导向靶
B.被轰击的原子向硅晶片运动
C.离子把靶上的原子轰出来
D.经过加速电场加速
E.原子在硅晶片表面凝结
答案
参考答案:A, B, C, E
一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。
A.产生一个离子并导向靶
B.被轰击的原子向硅晶片运动
C.离子把靶上的原子轰出来
D.经过加速电场加速
E.原子在硅晶片表面凝结
参考答案:A, B, C, E