大硅片上生长的（）的不均匀和各个部位刻蚀速率的不均匀会导致刻蚀图形转移的不均匀性。
A.薄膜厚度
B.图形宽度
C.图形长度
D.图形间隔
参考答案：A
运行在赤道上空的同步卫星，运行速度和地面的自转速度相比正确的是[ ]
A、与地球公转线速度相同
B、与地球自转线速度相同
C、角速度和线速度都相同
D、与地球自转角速度相同
标准试验是对各项工程的内在品质进行施工前的数据采集，它是控制和指导施工的科学依据，下列试验属于标准试验的是______。
A．标准击实试验
B．检测设备标定
C．混合料的配合比试验
D．集料的级配试验
E．结构的强度试验
