问题 单项选择题

光刻的主要工艺流程按照操作顺序是()。

A.涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶

B.涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶

C.涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶

D.前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶

答案

参考答案:C

选择题
多项选择题