问题 多项选择题

超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有()。

A.高分辨率

B.高灵敏度

C.精密的套刻对准

D.大尺寸

E.低缺陷

答案

参考答案:A, B, C, D, E

选择题
单项选择题