解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

A.加强工艺操作

B.加强人体和环境卫生

C.使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备

D.采用HCl氧化工艺

E.硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹