问题 单项选择题

射线探伤时,使用像质计的主要目的是()。

A.测量缺陷的大小

B.测量缺陷的位置

C.测量缺陷的几何不清楚度

D.确定底片的彩像质量

答案

参考答案:B

名词解释
单项选择题