参考答案：

离子注入的优点：

（1）精确控制杂质含量和分布

（2）很好的杂质均匀性

（3）对杂质穿透深度有很好的控制

（4）产生单一离子束

（5）低温工艺

（6）注入的离子能穿透薄膜

（7）无固溶度极限

离子注入的缺点：

（1）高能杂质离子轰击硅原子将对晶体结构产生损伤

（2）注入设备的复杂性