在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
参考答案：
一，将掩膜版图案转移到硅片表面顶层的光刻胶中
二，在后续工艺中，保护下面的材料
启闭机主要受力构件断面腐蚀检查，如果腐蚀量达到原厚度的（）时，如不能修复应报废。
A、5%
B、10%
C、15%
D、20%
设备工程进度管理的总目标是设备工程的( )。
A．进度
B．工期
C．质量
D．资源优化
