将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触,再用紫外光照射来进行曝光的方法,称为()曝光。
A.接触
B.接近式
C.投影
参考答案:A
下列描述中正确的是( )。
A.软件工程只是解决软件项目的管理问题
B.软件工程主要解决软件产品的生产率问题
C.软件工程的主要思想是强调在软件开发过程中需要应用工程化原则
D.软件工程只是解决软件开发过程中的技术问题
从热力学角度考虑,提高反应温度有利于一次反应和二次反应的进行。