问题 单项选择题

硅主要是由()装置中加注消泡剂引起的。少量硅沉积在催化剂孔口,导致活性下降,床层压降上升。

A、常减压

B、催化

C、重整

D、焦化

答案

参考答案:D

单项选择题
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