参考答案：

第一，若离子室沉积有二氧化硅，而积垢又不太硬，可注射若干毫升氟里昂，点火后，生成气态氟化氢，它再和二氧化硅形成挥发性物质，由气流带出。

第二，若上述方法不能除掉，则要把离子头内各部拆卸下来，放在超声浴中清洗二小时，然后在蒸馏水和丙酮中反复漂洗。也可用能够除掉二氧化硅的表面活性剂进行清除。