某建筑基坑深4.0m，地表无荷载，地下水位为2.0m，支护结构无侧向位移，地表以下2．0m为黏土，c-10kPa，φ=20°，K0=0.60，γ=19kN／m3，地表以下2.0～4.0m为砂土，c=0，φ=35°，K0=0.4，γ=18kN／m3，假定支挡结构后侧的土压力为静止土压力。

总侧向压力距基坑底面的距离为（）。

A.1.33m

B.1.37m

C.1.67m

D.2.0m

对已经注册的商标有争议的，可以自该商标经核准注册之日起( )内，向商标评审委员会申请裁定。

A．3个月

B．6个月

C．5年

D．2年