TEG装置腐蚀主要是()
A、由于有机酸及溶解的H2S等造成的
B、由于溶解的CO2造成的
C、由于溶液PH值过高造成的
D、由于溶液发泡造成的
参考答案:A
下列属于HLA-Ⅲ类分子的是()
A.C4
B.C2
C.B因子
D.热休克蛋白70
E.HLA-DP分子
可敛肺,敛汗,止血的药物是()
A.五味子
B.五倍子
C.乌梅
D.椿皮
E.诃子