TEG装置腐蚀主要是（）A、由于有机酸及溶解的H2S等造成的 B、由_爱下问搜题

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问题单项选择题

TEG装置腐蚀主要是（）

A、由于有机酸及溶解的H₂S等造成的

B、由于溶解的CO₂造成的

C、由于溶液PH值过高造成的

D、由于溶液发泡造成的

答案

参考答案：A

多项选择题

下列属于HLA-Ⅲ类分子的是（）

A.C4

B.C2

C.B因子

D.热休克蛋白70

E.HLA-DP分子

单项选择题 A1型题

可敛肺，敛汗，止血的药物是（）

A.五味子

B.五倍子

C.乌梅

D.椿皮

E.诃子