问题 单项选择题

邻二甲苯装置的原料来源是()。

A.二甲苯塔底的C+8A

B.二甲苯塔底的OX+C+9A

C.吸附分离装置贫PX的抽余液

D.二甲苯塔顶的C8A

答案

参考答案:A

单项选择题
单项选择题