问题
单项选择题
在制作可摘局部义齿时，基托腭侧最厚处的内层产生圆形较大气泡的原因是 （）
A.热处理过快
B.填塞不足
C.填塞过早
D.材料本身原因
E.单体过多或单体调拌不匀
答案
参考答案：A
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在制作可摘局部义齿时，基托腭侧最厚处的内层产生圆形较大气泡的原因是 （）
A.热处理过快
B.填塞不足
C.填塞过早
D.材料本身原因
E.单体过多或单体调拌不匀
参考答案：A