问题 填空题

使用VC++6.0打开考生文件夹下的源程序文件1.cpp,该程序运行时有错误,请改正程序中的错误,使得程序输出:
9,8,7,6,5
注意:错误的语句在/********error********/的下而,修改该语句即可。其他的语句不能修改。
试题程序:
#include<iostream.h>
class TC

/********error********/
TC(int i)
m_i=1;
void print()
cout<<--m_i<<’,’;

public:
int m_i;

int main()

/********error********/
int i();
TC obj(10);
while(i>5)

/********error********/
i++;
obj.print();

cout<<end1;
return 0;

答案

参考答案:“int i()”应改为“int i(10);”。

实验题

单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。

相关信息如下:

a.四氯化硅遇水极易水解;

b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;

c.有关物质的物理常数见下表:

请回答下列问题:

(1)写出装置A中发生反应的离子方程式                  

(2)装置A中g管的作用是              ;装置C中的试剂是         ;装置E中的h瓶需要冷却理由是                 

(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是             (填写元素符号)。

(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示剂?           (填“是”或“否”),请说明理由          

②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是           

单项选择题