根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，下列哪种行为须经布图设计专有权人的许可（）。

A.甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计

B.乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制

C.丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用

D.丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用

射线辐射防护的三种基本方式是（），（），（）。