问题 多选题

下列离子方程式书写正确的是(  )

A.氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液:Al(OH)3+3OH-=AlO2-+3H2O

B.AlCl3溶液中加入足量的氨水:Al3++3OH-═Al(OH)3

C.用FeCl3溶液腐蚀铜电路板:2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+

D.铜片加入浓硝酸中:Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2

答案

A、氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液反应生成偏铝酸钠和水,其离子反应为Al(OH)3+OH-=AlO2-+2H2O,故A错误;

B、AlCl3溶液中加入足量的氨水生成Al(OH)3和氯化铵,其离子反应为Al3++3NH3.H2O═Al(OH)3↓+3NH4+,故B错误;

C、用FeCl3溶液腐蚀铜电路板发生氧化还原反应为Cu+2FeCl3═2FeCl2+CuCl2,氯离子实际不参加反应,则离子反应为2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+,故C正确;

D、铜片加入浓硝酸中发生的氧化还原反应为Cu+4HNO3=Cu(NO32+2H2O+2NO2↑,有一半的硝酸根离子实际不参加反应,则离子反应为Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2↑,故D正确;

故选CD.

单项选择题
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