问题
问答题 简答题
阐述光学显微分析用光片制备方法。
答案
参考答案:
1.取样:取样部位应有代表性,应包含所要研究的对象并满足研究的特定要求;
2.镶嵌:对形状特殊或尺寸细小而不易握持的样品,需进行样品镶嵌;
3.磨光:去除取样时引入的样品表层损伤,获得平整光滑的样品表面;
4.抛光:去除细磨痕以获得平整无疵的镜面,去除变形层;
5.浸蚀:清晰显示出材料的内部组织。
阐述光学显微分析用光片制备方法。
参考答案:
1.取样:取样部位应有代表性,应包含所要研究的对象并满足研究的特定要求;
2.镶嵌:对形状特殊或尺寸细小而不易握持的样品,需进行样品镶嵌;
3.磨光:去除取样时引入的样品表层损伤,获得平整光滑的样品表面;
4.抛光:去除细磨痕以获得平整无疵的镜面,去除变形层;
5.浸蚀:清晰显示出材料的内部组织。
现有下列仪器或装置,请回答下列问题:
(1)仪器①的名称是 ;要用上图仪器组装成制气装置:用KMnO4加热分解制O2应选 (填字母);用废铁屑与稀盐酸反应制取H2,应选 (填字母)。
(2)若用F装置进行CO还原CuO的实验,b处的现象为 ;要检验反应后的气体中含有CO2,仪器②中应装的试剂名称为 , c处尾气的处理方法是 。
(3)若用右图装置进行“排空气法” | |
收集制取的H2,请把图中的“导气管” | |
补画完整。 | ![]() |