参考答案：

将所需要的杂质加入到wafer内部，并使其在wafer中的一部分区域按照一定的浓度分布，从而改变器件的电学性能。掺入的杂质一般是Ⅲ族和Ⅴ族的元素。常用的掺杂技术有扩散和离子注入两种。