问题
问答题 简答题
接触曝光方式的关键技术有哪些？它的主要优缺点是什么？
答案
参考答案：
需要一股很粗的光束、一个很大的透镜，以及一套良好的光学系统；
精确度较高但非理想接触导致LSI芯片合格率不高，掩膜和晶圆每次接触都会产生磨损，掩膜消耗大。
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接触曝光方式的关键技术有哪些？它的主要优缺点是什么？
参考答案：
需要一股很粗的光束、一个很大的透镜，以及一套良好的光学系统；
精确度较高但非理想接触导致LSI芯片合格率不高，掩膜和晶圆每次接触都会产生磨损，掩膜消耗大。