问题 问答题 简答题

为什么硅片热氧化结束时通常还要进行氢气或氢-氮混合气体退火?

答案

参考答案:

距Si/SiO2界面2nm以内的Si的不完全氧化是带正电的固定氧化物电荷区;对于器件的正常工作,界面处的电荷堆积是不受欢迎的;通过在氢气或氢一氮混合气中低温450℃退火,可以减少这种不可接受的电荷。

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