参考答案：

投影掩膜版：图形可能仅包含一个管芯，也可能是几个。容易形成亚微米图形；小曝光场，需要步进重复；光学缩小，允许较大的尺寸。

光学掩膜版：包含了对于整个硅片来说确定一工艺层所需的完整管芯阵列。没有缩小系统，很难形成亚微米图形；曝光场是整个硅片；掩膜与硅片有相同的关键尺寸。投影掩膜版的制造：电子束直接写。