患者女性，68岁，缺失，余留牙正常，拟行可摘局部义齿修复，设计正型卡环，后腭杆连接，支架在制作时应该考虑

该后腭杆的最厚部位应该是（）

A.前缘

B.后缘

C.两端

D.中间

E.杆的一端

巴黎系统为获得计划设计的剂量分布，需要遵循选择和设置放射源的通用规则，其中不包括（）

A.必须使用线源且相互平行

B.所有放射源的中心必须位于同一平面

C.所有线源的强度必须注明和均匀

D.相邻放射源的间距必须相等

E.可使用不同放射性核素