制作整流器和集成电路需要在半导体中掺入杂质。
参考答案:错
试述韦纳的归因理论及其在实际应用中的价值。
以下关于杆塔和基础的巡视,说法正确的是()。
A.杆塔应无倾斜、位移、锈蚀
B.砼杆应无纵向裂纹和严重横向裂纹及其他严重裂纹、铁锈水,保护层应完好
C.基础应无损坏及下沉,杆塔位置、埋深、防水应符合要求
D.杆塔杆号(牌)、相位牌、3m线等标志和警告标志、防撞标识等安全标识应齐全完好