一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A．不做处理，让患者把义齿戴走

B．腭杆组织面加自凝树脂重衬

C．腭杆组织面缓冲

D．取下腭杆

E．取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

限制雷电侵入波过电压的主要措施是提高进线段线路的防雷性能，包括降低最大绕击电流值和提高反击的耐雷水平，具体措施包括（）。

A.进一步减少变电站近区线路杆塔的保护角

B.加强近区线路的绝缘强度

C.减少杆塔的接地电阻

D.第三根避雷线