下列有关缺陷所形成的漏磁通的叙述中哪个是正确的()
A、它与试件上的磁通密度有关
B、它与缺陷的高度有关
C、磁化方向与缺陷垂直时漏磁通最大
D、以上都对
参考答案:D
下列方法有可能使半导体材料的电阻率减小的是[ ]
A.升高半导体的温度
B.用光照射半导体
C.在半导体中加入微量其他杂质
D.以上情况都不可能
脉暴出