问题 选择题

下列反应离子方程式正确的是

A.FeCl3溶液刻蚀铜制的印刷电路板:Fe3+ +Cu = Fe2+ + Cu2+

B.硅酸钠溶液和稀硫酸混合:Na2SiO3+2H = H2SiO3↓+2Na+

C.Ba(OH)2溶液与稀硫酸反应:Ba2++OH+H++SO42=BaSO4↓+H2O

D.向氯化铝溶液中滴加过量氨水:Al3+3NH3·H2O=Al(OH)3↓+3NH4

答案

答案:D

题目分析:A、电子得失不守恒,应该是2Fe3+ +Cu = 2Fe2+ + Cu2+,A不正确;B、硅酸钠是应该用离子符号表示,正确的是SiO32+2H =H2SiO3↓,B不正确;C、不符合定比组分比,应该是Ba2++2OH+2H++SO42=BaSO4↓+2H2O,C不正确;D、氨水是弱碱,不能溶解氢氧化铝,D正确,答案选D。

单项选择题
多项选择题