问题 填空题

光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和(),两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同,前者是(),后者是()。

答案

参考答案:正性光刻;负性光刻胶;正性光刻胶

填空题 案例分析题
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