光圈局部误差
参考答案:
被检光学表面与其参考光学表面产生的干涉条纹的不规则程度。
2000年8月,甲厂研制出一种新型阀门,其技术方案不仅前所未有,具有实质性特点和进步,而且经本厂测试、使用,效果极佳。甲厂遂采取商业秘密的形式对该技术予以保护。2001年8月,甲厂为强化对该技术的法律保护,向专利局提出实用新型专利申请。乙厂质检车间工程师齐某自定项目,自购设备和科研资料,利用业余时间,于2001年6月独立完成该阀门的研制工作,其中的结构、功能和技术方案与甲厂研制的阀门完全相同。齐某于2001年7月向专利局提出实用新型专利申请。 请综合分析、回答本案涉及的下列法律问题:
该发明创造的专利申请权人应当提交的专利申请文件是( )。
A.请求书
B.说明书及其摘要
C.权利要求书
D.该产品图片或照片
饱和电抗器的励磁电流增大其铁芯内部的磁通密度会随着增大,饱和电抗器的感抗也随着增大。