在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到_爱下问搜题

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问题判断题

在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

答案

参考答案：对

单项选择题

局部性原理为下面的哪个页面替换算法提供了合理的策略( )。

A．FIFO算法

B．LRU算法

C．OPT算法

D．以上都不对

填空题

微生物的脂类物质主要分成两类，一类是（），另一类是（）。