托幼园所室外场地应使每班专用的场地不小于（）平方米.
参考答案：60
晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20µm厚的表面层。
将硅砂转化成可用多晶硅的形式纰谬的是（）
A、四氯化硅法
B、三氯氢硅法
C、氯化钾法
D、硅烷法
