最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶?
参考答案:
负光刻胶
精神分裂症的病因是
A.脑内多巴胺神经系统的功能退化
B.脑内多巴胺神经系统的功能亢进或多巴胺受体超敏所致
C.多巴胺受体敏感性降低
D.与脑内多巴胺神经系统的功能无关
E.与多巴胺受体敏感性无关
《突发公共卫生事件应急条例》规定,医疗卫生机构应当对传染病做到()
A.早发现、早观察、早隔离、早治疗
B.早报告、早观察、早治疗、早康复
C.早发现、早报告、早隔离、早治疗
D.早发现、早报告、早隔离、早康复
E.早预防、早发现、早治疗、早康复