问题
单项选择题 A1/A2型题
一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。
A.取下腭杆
B.腭杆组织面缓冲
C.腭杆组织面加自凝树脂重衬
D.不做任何处理
E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
答案
参考答案：E
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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。
A.取下腭杆
B.腭杆组织面缓冲
C.腭杆组织面加自凝树脂重衬
D.不做任何处理
E.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
参考答案：E