有关后牙3/4冠的牙体预备，下列叙述正确的是

A．斜沟可预备在邻面舌侧1/3与中1/3交界处

B．可在舌侧牙合缘嵴外形成小斜面或小肩台

C．必要时可在邻面增加邻沟数目，或在胎面增加钉洞固位形

D．牙合沟预备是为防止修复体验间脱位

E．牙尖正常时，冠的骀边缘一定要覆盖颊、舌尖

下列化学用语或命名正确的是[ ]

A．Cl^-的结构示意图：

B．NH₄Cl的电子式：

C．丙烯的实验式（最简式）：CH₂

D．的名称：2-乙基丙烷