问题
单项选择题 A1型题
初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）
A.不必处理
B.腭杆组织面加白凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲
D.去腭杆，让患者戴走
E.取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
答案
参考答案：E
解析：后腭杆一般应离开黏膜0.5～1mm，该题目设计离开黏膜过高，因此应重新取印模重新制作腭杆，故此题选E。
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初戴上颌局部义齿时，如果发现弯制的后腭杆离开腭黏膜2mm．处理方法是（）
A.不必处理
B.腭杆组织面加白凝树脂重衬
C.腭杆组织面缓冲
D.去腭杆，让患者戴走
E.取下腭杆，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
参考答案：E
解析：后腭杆一般应离开黏膜0.5～1mm，该题目设计离开黏膜过高，因此应重新取印模重新制作腭杆，故此题选E。
