（14分）单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硫、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500°C），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。查阅相关资料获悉： a.四氯化硅遇水极易水解；

b.铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；

c.有关物质的物理常数见下表：

请回答下列问题：

（1）写出装置A中发生反应的离子方程式                                。

（2）装置A中g管的作用是                  ；装置C中的试剂是             ；装置E中的h瓶需要冷却理由是                 。

（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，含有铁、铝等元素的杂质。为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe²⁺，再用KMnO₄标准溶液在酸性条件下进行氧化还原反应滴定，锰元素被还原为Mn²⁺。

①写出用KMnO₄滴定Fe²⁺的离子方程式：                                     ；

②滴定前是否要滴加指示剂？        （填“是”或“否”），判断滴定终点的方法是                                                          。

③某同学称取5.000g残留物，预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液，移取25.00ml试样溶液，用1.000×10^-2mol· L^-1KMnO₄标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是              。若滴定前平视，滴定后俯视KMnO₄液面，对测定结果有何影响          （填“偏高”、“偏低”、或“无影响”）

为满足找平、结合、防水管线敷设等功能上的要求，还要在（）与面层之间增加若干中间层。