用什么辅助技术设备在厚度不一的被照射部位上以获得一个较为均匀的等计量分布（）

A、低熔点铅档块 

B、体位固定器 

C、等效填充物 

D、模拟定位 

E、补偿滤过或楔型板

病毒在下列哪种情况下可脱离免疫逃逸状态（）

A.病毒基因高频突变

B.病毒急性感染期

C.免疫抑制

D.分子模拟

E.干扰抗原提呈