电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO₂(s)+4HF(g)==SiF₄(g)+2H₂O(g) 其△H（298K）== -94.0kJ·mol^-1 △S(298K)== -75.8J·mol^-1·K^-1 设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的温度条件。