下列原子最易形成阴离子的是[ ]
A. Cl
B. F
C. C
D. O
答案:B
构件通常是指机器中单独运动的单元体。
所谓潜水完整井是指()。
A.抽水时产生的降落漏斗在隔水顶板范围内,且过滤器底端到达不透水层
B.抽水删产生的降落漏斗在隔水顶板范围内,但过滤器底端位于含水层中
C.自由水面位于隔水顶板以下,且过滤器底端到达不透水层
D.抽水叫产生的降落漏斗,位于潜水层,但过滤器底端到达不透水层