在随机接入过程中，为了增大UE的初始发射功率，可以调整的无线参数是：（）

A.PCPICHTXpower

B.ULInterference

C.ConstantValue

D.CPICHRSCP

患者下颌第二磨牙邻邻银汞充填，剩余颊舌壁硬组织充足，但牙冠高度仅约4mm。若全冠修复，以下增加固位的措施哪项是错误的（）

A．龈下边缘

B．适当增加龈边缘宽度

C．设计嵌体冠

D．增加钉洞或箱型辅助固位形

E．以上都不是