基托组织面需局部缓冲
A．正中关系错B．义齿不美观C．咀嚼时义齿易脱位D．下颌隆突处压痛E．说话及大开口时义齿脱落
参考答案：D
补体系统激活过程的调节包括()
A．自行衰变的调节
B．C4bp抑制C4b与C2结合
C．C8bp抑制MAC形成
D．正反馈途径的扩大效应
E．I因子、H因子在旁路途径中起到重要的调节作用
高能电子束射野大小应比计划靶区横径大多少（）
A.5%
B.10%
C.15%
D.20%
E.25%
