（10分）单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质)，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450~500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下：
①四氯化硅遇水极易水解；
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
③有关物质的物理常数见下表：
| 物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
| 沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
| 熔点/℃ | －70.0 | －107.2 | — | — | — |
| 升华温度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
（1）写出装置A中发生反应的离子方程式 。
（2）装置A中g管的作用是 ；装置C中的试剂是 ；
装置E中的h瓶需要冷却的理由是 。
（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，除铁元素外可能还含有的杂质元素是 （填写元素符号）。
（4）为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2＋,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：
5Fe2＋＋MnO4－＋8H＋
5Fe3＋＋Mn2＋＋4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂？ （填“是”或“否”），请说明理由
。
②某同学称取5.000g残留物后，经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液，移取25.00 mL试样溶液，用1.000×10－2 mol/LKMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00 mL，则残留物中铁元素的质量分数是 。
（1）MnO2＋4H＋＋2Cl―
Mn2＋＋Cl2↑＋2H2O；
（2）平衡压强，使液体顺利流出并防止漏气；浓硫酸；产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集；
（3）Al、P、Cl； （4）①否；KMnO4溶液的紫红色可指示反应终点；②4.480%；
（1）A是氯气的发生装置，方程式为MnO2＋4H＋＋2Cl―Mn2＋＋Cl2↑＋2H2O。
（2）g导管能使内外压强相等，使液体顺利流出并防止漏气。四氯化硅遇水极易水解，所以和二氧化硅反应的氯气必须是干燥的，因此C中是浓硫酸，干燥氯气。由于产物SiCl4沸点低，需要冷凝收集。
（3）由于再加热的条件下，Al、P也能和氯气反应生成相应的氯化物，所以可能还含有的杂质元素是Al、P、Cl。
（4）①由于酸性高锰酸钾溶液是紫红色的，即KMnO4溶液的紫红色可指示反应终点，所以不需要指示剂。
②根据方程式可知，溶液中含有的铁元素是
，所以残留物中铁元素的质量分数是0.224÷5×100％＝4.480％。